





更新時間:2026-01-09
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廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
產(chǎn)品型號:PUE-9000
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 在線 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
| 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
一、產(chǎn)品概述
高精度氨逃逸傳感器是脫硝系統(tǒng)未反應氨氣的排放,過高會導致設(shè)備腐蝕、粉塵黏結(jié)、二次污染,過低則脫硝效率不足。 氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)采用主流 TDLAS 激光吸收光譜技術(shù),結(jié)合全程高溫伴熱抽取預處理,實現(xiàn) 24 小時連續(xù)自動監(jiān)測,數(shù)據(jù)精準可靠,為脫硝工藝閉環(huán)控制與環(huán)保監(jiān)管提供核心數(shù)據(jù)支撐。

二、核心技術(shù)參數(shù)
項目 參數(shù)指標
檢測方法可調(diào)諧二極管激光吸收光譜法(TDLAS)/ 中紅外量子級聯(lián)激光(QCL,可選)
測量范圍0-20/50/100 ppmv(可定制 0-200 ppmv)
檢出限≤0.1 ppmv(QCL 可達 0.01 ppmv)
示值誤差±2% FS 以內(nèi)
重復性≤1%
響應時間≤10 秒(T90)
零點漂移≤±1% FS/24h
量程漂移≤±1% FS/24h
采樣方式全程高溫伴熱抽取(180-240℃),防吸附防結(jié)晶
數(shù)據(jù)輸出4-20mA、RS485、以太網(wǎng),支持 HJ212 環(huán)保協(xié)議
工作環(huán)境溫度 - 20~50℃,濕度≤95% RH(無冷凝)
供電AC220V±10%,50Hz
三、核心技術(shù)與優(yōu)勢
精準抗干擾,測量可靠:TDLAS 技術(shù)選擇氨氣特征吸收譜線,避開粉塵、水蒸氣、SO?等干擾,中紅外 QCL 技術(shù)吸收強度更高,精度提升顯著。
全程高溫伴熱,防吸附防結(jié)晶:采樣管線與預處理單元 180-240℃伴熱,避免氨氣吸附與銨鹽結(jié)晶,保障數(shù)據(jù)真實性。
全自動運行,運維高效:自動取樣、過濾、反吹、校準、數(shù)據(jù)上傳,支持遠程啟停與參數(shù)設(shè)置;故障自動報警,維護周期長、成本低。
工藝適配性強:適配高粉塵、高濕、強腐蝕工況,可集成 O?、NO?同步監(jiān)測,支持干 / 濕基濃度轉(zhuǎn)換,滿足工藝控制全需求。
合規(guī)適配,即裝即用:通過 CPA 計量認證與 CCEP 環(huán)保認證,支持 HJ212 協(xié)議,直接對接環(huán)保與企業(yè) DCS 平臺。
四、系統(tǒng)組成
采樣預處理單元:高溫伴熱采樣探頭(過濾精度 2μm)、伴熱管線、反吹系統(tǒng),實現(xiàn)樣氣無損失采集。
分析單元:TDLAS/QCL 激光分析模塊、氣體吸收池,完成氨濃度高精度測量。
控制與數(shù)據(jù)單元:PLC 控制系統(tǒng)、工業(yè)觸摸屏、數(shù)據(jù)采集與傳輸模塊,實現(xiàn)自動化控制與數(shù)據(jù)上傳。
輔助單元:高溫加熱模塊、自動反吹系統(tǒng)、廢液 / 廢氣處理裝置,保障系統(tǒng)穩(wěn)定與環(huán)保排放。
五、應用場景
燃煤電廠:SCR/SNCR 脫硝出口氨逃逸監(jiān)測,優(yōu)化噴氨,保護空預器,滿足超低排放要求。
工業(yè)窯爐:垃圾發(fā)電、水泥、玻璃、鋼鐵等窯爐脫硝系統(tǒng),保障工藝穩(wěn)定與環(huán)保合規(guī)。
化工行業(yè):氨法脫硫 / 脫硝工藝中氨氣泄漏與排放監(jiān)測,保障生產(chǎn)安全。
環(huán)保監(jiān)管:第三方檢測與環(huán)保驗收,提供精準數(shù)據(jù)支撐。
六、售后服務承諾
免費安裝調(diào)試與操作培訓,確保快速上手。
整機質(zhì)保 1 年,終身技術(shù)支持與維修。
7×24 小時響應,故障報修 2 小時內(nèi)響應,48 小時內(nèi)現(xiàn)場處理。
定期上門巡檢,協(xié)助校準與耗材更換,保障設(shè)備長期穩(wěn)定運行。
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